Mari 4.7 がリリース、シェルフパレットの改善、新しいプロシージャルマスクワークフローの追加など

Foundryは、12月10日（現地時間）高解像度デジタル3Dテクスチャペイントの最新アップデート Mari 4.7 をリリースしました。

このリリースでは、新しいプロシージャルマスクの追加、シェルフパレットの改善、ポストプロセス機能の拡張、新しいシェーダモードの追加などがされています。

Mari 4.7 新機能
価格とシステム要件

Mari 4.7 新機能

再設計されたシェルフパレット

シェルフパレットのアップデートにより、アーティストが簡単にコンテンツを整理できるようになりました。シェルフはグループ化して分類することができ、プロジェクトやショー間での整理が容易になっています。また、マテリアルとカスタムプロシージャルのためのアイテムタイプ、名前、タグで、単一または複数の棚にまたがってコンテンツを検索することができるようになりました。

■シェルフアイテムのタグ付け

特定のシェルフアイテムにはタグが割り当てられ、より効率的なライブラリフィルタリングが可能になりました。マテリアルやカスタムプロシージャルの場合、タグはエクスポートの前と後の両方で追加することができます。

タグはマテリアルの特定のタイプのシェルフコンテンツを検索するために使用することができ、マテリアルのノードプロパティで編集するか、シェルフパレットでマテリアルを右クリックしてタグの編集を選択することでいつでも編集することができます。

シェルフパレットについてはこちらから

プロシージャルマスク

Custom Proceduralノードと呼ばれる新しいタイプのグループノードから、独自のプロシージャルマスクをオーサリングすることができるようになりました。このノードがエクスポートされると、すべてのリファレンステクスチャマップは、シェルフに表示するために生成されたサムネイル付きの単一のパッケージファイルにバンドルされ、チームでの共有が容易になります。

プロシージャルマスクはノードグラフにインポートするか、レイヤーのマスクとしてレイヤーに直接インポートすることができ、非破壊的なワークフローのためにすべての促進されたアトリビュートにアクセスすることができます。

■カスタムプロシージャル

プロシージャルマスクと同様に、独自のカスタムプロシージャルレイヤーを作成することができます。ユーザーはプロシージャルノードのグループを1つのシンプルなカスタムプロシージャルノードにスタックすることができ、レイヤースタックに共有してユニークな最終的な外観を与えることができます。プロシージャルマスクと同様に、カスタムプロシージャルはノードグラフとレイヤースタックの両方で使用することができます。

カスタムプロシージャルの詳細はこちらから

マテリアルベイクポイントノード（Material Bake Point Nodes）

ノードグラフでマテリアルを扱う場合、プロジェクトの複雑さを軽減するためにマルチチャンネルベイクポイントノードを使用することができます。マルチチャンネルベイクポイントノードを使用すると、シェーダストリームの各ベイクポイントノードを一括して作成して管理することができます。

マルチチャンネルベイクポイントノードの詳細はこちらから

ポストプロセス機能の拡張

Mari 4.7 では、ベイクポイントエクスポート機能にポストプロセスが追加されました。これにより、Look Developmentのアーティストは、1つのシームレスなマルチスレッドのバックグラウンドプロセスで、エクスポートされたイメージファイルをレンダリングエンジンのネイティブテクスチャファイルに変換するコマンドラインプロセスを含めることができるようになりました。